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降低微粒残留与静电击穿风险,半导体防静电洁净擦拭布

发布日期:2026-08-17 11:00浏览次数:

先进晶圆、芯片封装、光刻检测、半导体精密工位对擦拭除尘、静电管控要求严苛,普通无尘布无法满足高端产线擦拭标准。多家半导体、光电企业采购利洁净防静电无尘布,作为产线擦拭标配耗材。下面拆解这款无尘布五大硬核优势,了解它如何守护半导体精密生产品质。

一、千级洁净织造工艺,严控掉屑掉毛,规避元器件微粒不良

千级洁净车间擦拭工位,布面脱落纤维、微颗粒会附着芯片引脚、晶圆表面,引发短路、外观不良。

1、高温定型锁纤工艺

采用聚酯长丝织造,高温压合定型,纤维锁止牢固,裁切边缘超声波封边处理,大幅降低掉毛掉屑。

2、无尘水洗纯化

成品经过多道超纯水漂洗、净化烘干,去除织造油污、浮尘、浆料残留,布面离子残留低。

3、净化独立包装

清洗烘干后在净化车间分装密封,开箱直接用于洁净车间,无需二次清洗。

普通民用擦拭布、经济型无尘布未做封边与无尘水洗,擦拭掉屑量大,仅适合普通外壳清洁,不可擦拭芯片、晶圆精密表面。

二、稳定ESD防静电性能,消除擦拭过程静电损伤

存储芯片、PCB裸板、晶圆探针台均为静电敏感部件,擦拭摩擦产生静电,极易造成隐性击穿。利洁净防静电无尘布植入长效导电纤维,表面电阻稳定10⁶‑10⁹Ω,摩擦不易积聚静电,擦拭作业不会产生静电放电风险,匹配半导体ESD管控规范。

三、高吸液锁液能力,高效吸附IPA、清洗剂残留

产线擦拭经常搭配异丙醇、高纯清洗剂使用。利洁净防静电无尘布致密长丝结构,吸液速度快、锁液能力强,擦拭时不易滴水、液体二次流淌污染晶圆;布面柔软,低摩擦硬度,擦拭不会刮伤镀层、抛光面。

四、低离子析出,避免金属引脚腐蚀发黑

经过去离子水洗管控,钠、钾、钙等可析出离子含量低,长期擦拭镀金、镀银引脚,减少滞后氧化腐蚀问题,适配芯片检测、封装清洗工序

五、多规格可选,覆盖整条产线擦拭需求

提供1009、3109C、4009多款主流克重、尺寸规格,封边类型可选择激光封边、超声波封边;可用于光刻工位擦拭、晶圆盒清洁、治具擦拭、光学镜片擦拭,一套耗材适配半导体多类擦拭场景。


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